ISSN |
2237-9045 |
Instituição |
Universidade Federal de Viçosa |
Nível |
Graduação |
Modalidade |
Pesquisa |
Área de conhecimento |
Ciências Exatas e Tecnológicas |
Área temática |
Física da Matéria Condensada |
Setor |
Departamento de Física |
Bolsa |
FAPEMIG |
Conclusão de bolsa |
Sim |
Apoio financeiro |
CNPq, FAPEMIG |
Primeiro autor |
Pedro Augusto dos Santos Arantes |
Orientador |
LUCIANO DE MOURA GUIMARAES |
Outros membros |
EDUARDO NERY DUARTE DE ARAUJO, Gabriel Tomaz Massardi, JOAQUIM BONFIM SANTOS MENDES, RAFAEL OTONIEL RIBEIRO RODRIGUES DA CUNHA |
Título |
Fotoeletrodeposição assistida de cobre em silício tipo p |
Resumo |
A fotoeletrodeposição em silício tipo p tem sido explorada desde o século passado como uma alternativa simples e de baixo custo para controlar a formação de depósitos de diferentes materiais na superfície do silício. Neste trabalho, empregamos a fotoeletrodeposição em um silício(111) de tipo p para controlar a formação de microdepósitos de cobre. Em uma célula eletroquímica construída para este fim, o silício do tipo p foi imerso em uma solução de CuSo~4~ e pontualmente iluminado por um laser monocromático de 633 nm com o auxílio de um microscópio Raman. As propriedades e morfologia dos depósitos podem ser controladas por variação da intensidade do laser, tempo de exposição do mesmo e potencial da célula eletroquímica, dentre outros. Além do estudo da morfologia e propriedades dos depósitos, variando os itens citados acima, foi estudado sua aplicação num efeito denominado Espectroscopia Raman amplificada por superfície (SERS). A espectroscopia Raman é uma técnica que permite obter a "impressão digital" dos materiais a partir do espalhamento inelástico da luz, mas é limitada pelo baixo sinal e fluorescência para alguns materiais. O efeito SERS, em muitos casos, permite para contornar essas limitações. O SERS ocorre para superfícies metálicas como ouro, prata, cobre e depende das propriedades da superfície e da “afinidade química” com o material a ser analisado. Apesar das dificuldades iniciais para a implantação da técnica de fotoeletrodeposição, os resultados mostram um grande potencial da técnica para a formação e modulação dos depósitos eletroquímicos. As propriedades dos depósitos são sensíveis aos parâmetros do processo e isso permite atender diferentes propósito como aplicações de litografia, fabricação de sensores e aplicações em espectroscopia como no efeito SERS citado acima. Há muito a se explorar mediante dos resultados obtidos como a influência de vários outros parâmetros como por exemplo o pH do eletrólito, polarização, comprimento de onda do laser e orientação do substrato de silício. |
Palavras-chave |
SERS, fotoeletrodeposição, espectroscopia |
Forma de apresentação..... |
Painel |