Ciência, saúde e esporte: conhecimento e acessibilidade
21 a 26 de outubro de 2013
Trabalho 576
| ISSN | 2237-9045 |
|---|---|
| Instituição | Universidade Federal de Viçosa |
| Nível | Graduação |
| Modalidade | Pesquisa |
| Área de conhecimento | Ciências Exatas e Tecnológicas |
| Área temática | Física teórica, experimental e de simulação |
| Setor | Departamento de Física |
| Bolsa | PIBIC/CNPq |
| Conclusão de bolsa | Não |
| Apoio financeiro | CNPq |
| Primeiro autor | Robson César de Oliveira Guedes |
| Orientador | RENE CHAGAS DA SILVA |
| Outros membros | LUCIANO DE MOURA GUIMARAES |
| Título | Caracterização de Filmes Finos do Composto Hexacianoferrato de Níquel Eletrodepositados |
| Resumo | O presente resumo descreve o trabalho científico realizado no Laboratório de Eletrodeposição, Superfícies e Películas Avançadas (LESPA), do Departamento de Física. O principal objetivo do trabalho é o uso da técnica da eletrodeposição para a obtenção de filmes finos do composto Hexacianoferrato de Níquel (Ni-HCF) e a caracterização das propriedades morfológicas, estruturais e eletroquímicas desse material. Essa classe de compostos apresenta características, as quais o qualificam para a utilização em sensores eletroquímicos, baterias, dispositivos magnéticos e eletrocrômicos. A deposição desses filmes ocorre em duas etapas distintas, em uma célula eletroquímica convencional de três eletrodos, sendo um eletrodo de trabalho de Si(100), tipo n, um contra-eletrodo de platina e um eletrodo de referência de Ag/AgCl, todos mergulhados em um eletrólito contendo íons de interesse. A primeira etapa consiste na deposição potenciostática de uma camada de Ni sobre um substrato de Si, e a segunda consiste na derivação desta camada em um composto HCF através de voltametrias cíclicas. A deposição da camada de Ni ocorreu em um potencial de -1,2V vs. Ag/AgCl e os resultados obtidos por perfilometria mostraram que a espessura dos filmes é diretamente proporcional ao tempo de deposição. Foram obtidos filmes com espessuras entre 50 e 400 nm para tempos de deposição variando entre 10 a 90 s. A derivação das camadas de Ni para Ni-HCF foi realizada na mesma célula eletroquímica com um eletrólito contendo íons Hexacianoferratos, através de varreduras do potencial no intervalo de -0,1 V a 1,0 V vs. Ag/AgCl, com taxas de 50 e 100 mV/s, variando o número de ciclos. Os filmes foram caracterizados por diversas técnicas experimentais. A perfilometria mostrou que a derivação não alterou a espessura do depósito de Ni. Medidas de espectroscopia Raman mostraram picos referentes a ligação C-N localizados em ~2100 e ~2140 cm-1 sendo a intensidade dos picos proporcional ao número de ciclos da derivação, isso indica que a quantidade de Ni-HCF presente nos depósitos está diretamente relacionada ao número de ciclos. Imagens obtidas por microscopia eletrônica de varredura (MEV) mostraram que os depósitos apresentam uma morfologia uniforme e sem defeitos. Testes eletroquímicos em um eletrólito contendo íons K+ mostraram que os filmes são sensíveis a este elemento podendo ser utilizado como sensor eletroquímico, tanto para a detecção quanto para quantificação do mesmo em diferentes eletrólitos. |
| Palavras-chave | Eletrodeposição, compostos Hexacianoferratos, filmes finos |
| Forma de apresentação..... | Oral |