Resumo |
A síntese de micro/nano estruturas metálicas tem sido um dos importantes focos do ponto de vista acadêmico e de aplicações. No entanto, algumas técnicas de síntese possuem limitações que vão desde um alto custo, dificuldade de produção em massa, até procedimentos complexos e limitados para certos fins. Dentro deste contexto, a eletrodeposição é uma técnica barata de fácil aplicação, com possibilidade de produção de depósitos com morfologias variadas. O presente trabalho trata da sı́ntese de micro depósitos metálicos de prata e cobre por foto eletrodeposição sobre silício monocristalino do tipo-p com orientação cristalográfica (111). Para este fim foi necessário construir uma minicélula eletrolı́tica que foi montada no microscópio de espectrômetro Raman e foram estudados foto depósitos obtidos por três eletrólitos CuSO4, AgNO3 e CuCl2.2H2O. Para o controle e a focalização da luz na região de interesse sobre o eletrodo de silício utilizou-se dos lasers e da estrutura do espectrômetro micro Raman. Durante os experimentos, alteramos vários parâmetros como potência do laser, tempo de deposição, lente utilizada e PH do eletrólito. Verificou-se uma dificuldade da reprodutibilidade e controle da morfologia dos depósitos. Imagens de MEV mostraram estruturas muito distintas entre os depósitos de prata e de cobre, porém um perfil semelhante entre depósitos de mesmo metal. O EDS revelou que o cobre oxida mais rápido que a prata, sendo que os testes de SERS (surface enhanced Raman scattering) mostram uma intensificação do sinal Raman do corante cresil violeta tanto para o cobre quanto para a prata. A oxidação prematura do cobre limita sua utilização como substrato SERS. A técnica de eletro deposição foto assistida mostrou-se promissora para a sı́ntese de micro depósitos metálicos sobre substratos de silício, no entanto, faz-se necessário um estudo mais aprofundado para que tenhamos melhor controle na resposta fotoinduzida do substrato de silício e, consequentemente, no processo de foto eletrodeposição. |