Bioeconomia: Diversidade e Riqueza para o Desenvolvimento Sustentável

21 a 25 de outubro de 2019

Trabalho 11909

ISSN 2237-9045
Instituição Universidade Federal de Viçosa
Nível Graduação
Modalidade Pesquisa
Área de conhecimento Ciências Exatas e Tecnológicas
Área temática Ciências Exatas e da Terra
Setor Departamento de Física
Bolsa FAPEMIG
Conclusão de bolsa Sim
Apoio financeiro FAPEMIG
Primeiro autor Wesley Fiorio Inoch
Orientador LUCIANO DE MOURA GUIMARAES
Outros membros RENÊ CHAGAS DA SILVA, SUKARNO OLAVO FERREIRA
Título Foto eletrodeposição de metais em semicondutores
Resumo A síntese de micro/nano estruturas metálicas tem sido um dos importantes focos do ponto de vista acadêmico e de aplicações. No entanto, algumas técnicas de síntese possuem limitações que vão desde um alto custo, dificuldade de produção em massa, até procedimentos complexos e limitados para certos fins. Dentro deste contexto, a eletrodeposição é uma técnica barata de fácil aplicação, com possibilidade de produção de depósitos com morfologias variadas. O presente trabalho trata da sı́ntese de micro depósitos metálicos de prata e cobre por foto eletrodeposição sobre silício monocristalino do tipo-p com orientação cristalográfica (111). Para este fim foi necessário construir uma minicélula eletrolı́tica que foi montada no microscópio de espectrômetro Raman e foram estudados foto depósitos obtidos por três eletrólitos CuSO4, AgNO3 e CuCl2.2H2O. Para o controle e a focalização da luz na região de interesse sobre o eletrodo de silício utilizou-se dos lasers e da estrutura do espectrômetro micro Raman. Durante os experimentos, alteramos vários parâmetros como potência do laser, tempo de deposição, lente utilizada e PH do eletrólito. Verificou-se uma dificuldade da reprodutibilidade e controle da morfologia dos depósitos. Imagens de MEV mostraram estruturas muito distintas entre os depósitos de prata e de cobre, porém um perfil semelhante entre depósitos de mesmo metal. O EDS revelou que o cobre oxida mais rápido que a prata, sendo que os testes de SERS (surface enhanced Raman scattering) mostram uma intensificação do sinal Raman do corante cresil violeta tanto para o cobre quanto para a prata. A oxidação prematura do cobre limita sua utilização como substrato SERS. A técnica de eletro deposição foto assistida mostrou-se promissora para a sı́ntese de micro depósitos metálicos sobre substratos de silício, no entanto, faz-se necessário um estudo mais aprofundado para que tenhamos melhor controle na resposta fotoinduzida do substrato de silício e, consequentemente, no processo de foto eletrodeposição.
Palavras-chave foto eletrodeposição, sers, semicondutor.
Forma de apresentação..... Oral
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