Resumo |
O objetivo deste trabalho foi o estudo da dinâmica de crescimento de nanoestruturas formadas através de processos de deposição de partı́culas em superfı́cies. Diversos desenvolvimentos tecnológicos, imperativos em nossos dias atuais, como, por exemplo, os microprocessadores presentes em computadores e celulares, tem um processo de produção intimamente relacionado com processos de deposição e crescimento de microestruturas em superfícies. Além disso, cada dia mais tem se buscado o desenvolvimento de tais dispositivos em escala nanoscópica, o que é uma importante justificativa para o nosso estudo. Por meio de simulações computacionais foram investigados modelos atomı́sticos, tipo gás de rede, a partir dos quais analisamos quantidades como as densidades de ilhas e de monômeros, bem como a distribuição de tamanhos de ilhas para modelos de ilhas pontuais (que ocupam apenas um ponto do substrato) e modelos para ilhas com formas fractais (estendidas). Inicialmente, construı́mos e aperfeiçoamos os códigos computacionais em linguagem Fortran, para a realização das simulações de Monte Carlo cinético, e também implementamos algoritmos para analizar os tamanhos de ilhas, tal como o algoritmo de Hoshen-Kopelman. Até chegarmos ao nosso foco principal, que era o estudo de ligas binárias (formadas por dois tipos de partículas) foram desenvolvidos durante o trabalho modelos mais simples para o crescimento de nanoestruturas em superfı́cies, envolvendo a deposição de apenas um tipo de partı́cula (átomo ou molécula). Para investigarmos a formação de ligas binárias, desenvolvemos também modelos onde dois tipos de partı́culas (A e B) são depositadas concomitantemente, com diferentes fluxos (FA e FB), sobre o substrato. Com os resultados obtidos das simulações foi possível se verificar os parâmetros que caracterizam as superfı́cies formadas e compará-los para sistemas com um ou dois tipos de partı́culas. Até onde avançamos no estudo deste segundo sistema, nenhuma diferença relevante foi observada em relação ao primeiro. |