Do Lógico ao Abstrato: A Ciência no Cotidiano
23 a 28 de outubro de 2017
Trabalho 8075
| ISSN | 2237-9045 |
|---|---|
| Instituição | Universidade Federal de Viçosa |
| Nível | Graduação |
| Modalidade | Pesquisa |
| Área de conhecimento | Ciências Exatas e Tecnológicas |
| Área temática | Física |
| Setor | Departamento de Física |
| Bolsa | FAPEMIG |
| Conclusão de bolsa | Sim |
| Apoio financeiro | FAPEMIG |
| Primeiro autor | Milena Lima Bispo |
| Orientador | LUCIANO DE MOURA GUIMARAES |
| Título | Estudos e Produção de Nanoestruturas Fotoeletrodepositadas em Silício |
| Resumo | ESTUDOS E PRODUÇÃO DE NANOESTRUTURAS FOTOELETRODEPOSITADAS EM SILÍCIO Milena Lima Bispo (1) – PIBIC/FAPEMIG Prof. Dr. Luciano G. Moura(2) – UFV Este trabalho teve como foco o estudo do processo de formação de depósitos micro/nanoestruturados de níquel sobre silício (111) por meio da técnica da eletrodeposição fotoassistida que consiste no controle local da deposição por meio de luz. Para tanto, uma célula eletrolítica foi montada e adaptada ao microscópio de um espectrômetro Raman. Dessa forma, utilizamos os lasers do equipamento e o microscópio microcontrolado para realizar a fotoeletrodeposição em locais definidos sobre o silício. Duas linhas distintas de laser, 514nm e 633nm, foram empregadas como fonte de excitação e o eletrólito de Na2ClO4 (0,1M) + NiCl2 (0,5M) forneceu melhores resultados. Os estudos envolveram a variação de parâmetros como: potencial externo aplicado na célula, o tempo de exposição do laser no substrato, a intensidade e comprimento de onda do laser. Após testes preliminares com a linha de 514nm não apresentarem resultado satisfatório, recorreu-se a um estudo voltamétrico do processo em que pudemos notar a maior sensibilidade do conjunto substrato-eletrólito ao comprimento de onda de 633nm. Os resultados obtidos nesse comprimento de onda indicam que o tempo de exposição se relaciona diretamente com o diâmetro do depósito, bem como maiores intensidades do laser favorecem estruturas menos densas. Sendo assim, esses dois parâmetros estão intimamente ligados. A regulagem adequada do potencial externo também se mostrou decisiva já que observamos um limite mínimo de potencial aplicado abaixo do qual os depósitos não ocorreram independente das intensidades dos lasers e do tempo de exposição utilizados. A síntese das micro/nanoestruturas de níquel sobre silício por foto eletrodeposição mostrou-se promissora pela facilidade de delimitação do local, tamanho e morfologia do depósito a partir do ajustes dos parâmetros de síntese. Perspectivas futuras incluem a caracterização desses depósitos por Microscopia de Varredura e também o uso de outros metais com o intuito de utilizarmos estes substratos em aplicações específicas para adsorção de moléculas a serem estudadas por Raman intensificado por superfícies (SERS). (1)Estudante do Curso de Física, UFV – Viçosa/MG. Email: milena.bispo@ufv.br (2)Professor do Departamento de Física, UFV – Viçosa/MG. Email: lucianomoura@ufv.br |
| Palavras-chave | Eletrodeposição, Fotoeletrodeposição, Nanoestruturas |
| Forma de apresentação..... | Painel |