Conexão de Saberes e Mundialização

19 a 24 de outubro de 2015

Trabalho 3651

ISSN 2237-9045
Instituição Universidade Federal de Viçosa
Nível Graduação
Modalidade Pesquisa
Área de conhecimento Ciências Exatas e Tecnológicas
Área temática Física teórica, experimental e de simulação
Setor Departamento de Física
Bolsa FAPEMIG
Conclusão de bolsa Sim
Apoio financeiro FAPEMIG
Primeiro autor Ana Paula Miranda
Orientador JORLANDIO FRANCISCO FELIX
Outros membros CLODOALDO IRINEU LEVARTOSKI DE ARAUJO, JOAQUIM BONFIM SANTOS MENDES
Título Síntese e caracterização de filmes finos de óxidos de cobre dopado com bismuto
Resumo O óxido de cobre (CuO) é um semicondutor do tipo-p de gap direto de 1.2 eV. É um dos mais importantes óxidos de metais de transição, devido a suas únicas propriedades físicas e químicas de grande interesse cientifico e tecnológico, as quais possibilitam várias aplicações tais como: desenvolvimento de supercondutores de alta temperatura, sensores de gás, em aplicações foto condutoras, dentre outras. O CuO é um semicondutor intrinsecamente do tipo-p, onde é possível controlar a sua condutividade por meio de tratamentos térmicos ou/e durante o seu crescimento, podendo, portanto, controlar os processos de criação e/ou aniquilação de defeitos. Neste trabalho apresentaremos a síntese e caracterização de filmes finos de óxido de cobre dopado com bismuto, obtidos usando a técnica de eletrodeposição. Essa técnica mostrou-se eficaz, pois garantiu depósitos com boa qualidade (baixa rugosidade, homogeneidade, e aderência) favorecendo, deste modo, a obtenção de junções com boas propriedades elétricas, além do seu baixo custo de produção. Para crescimento dos filmes finos de CuO foi usado uma solução aquosa de sal sulfato de cobre (CuSO4), ácido lático (C3H6O3), nitrato de bismuto III ( Bi(NO3)3 ) e hidróxido de sódio (NaOH). A primeira delas, sulfato de cobre, é um sal do elemento cobre necessário para fornecer os íons do metal. O ácido lático atua como inibidor na formação de precipitados do tipo Cu(OH)2 em ambientes básicos. O nitrato de bismuto fornece os íons dopantes. E, finalmente, uma solução básica de hidróxido de sódio, reagente adicionado para controlar o pH da solução que foi mantido em 9. Os filmes de CuO obtidos com diferentes potenciais foram submetidos a tratamento térmico. Sabe-se que para o caso do óxido de cobre, o tratamento térmico influência a cristalinidade do material quando feito com temperaturas a cima de 350 oC . Então, mostraremos os resultados preliminares dos tratamentos para diferentes temperaturas. Os filmes finos foram caracterizados por difratometria de raios X, microscopia eletrônica de Varredura (MEV), bem como espectroscopia por dispersão de energia (EDS). A caracterização elétrica dos filmes será realizada por meio de medidas de corrente vs tensão. Finalmente, esses filmes serão aplicados para o desenvolvimento de sensores de pH.
Palavras-chave caracterização, eletrodeposição, óxido de cobre
Forma de apresentação..... Painel
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